Установка плазменно-усиленного химического осаждения из газовой фазы (PECVD)

Установка PECVD использует технологию плазменно-усиленного химического осаждения из газовой фазы, которая позволяет использовать высокоэнергетическую плазму для ускорения химических реакций, повышения скорости осаждения и снижения температуры процесса. Оборудование подходит для нанесения тонких плёнок, таких как нитрид кремния, аморфный кремний и микрокристаллический кремний, на различные типы подложек: оптическое стекло, кремний, кварц и нержавеющую сталь. Получаемые покрытия отличаются высоким качеством: имеют малое количество дефектов (поров), не склонны к растрескиванию. Установка применяется для изготовления тонкоплёночных солнечных элементов на основе аморфного и микрокристаллического кремния, а также широко используется в научно-исследовательских работах и малосерийном изготовлении тонкоплёночных материалов в университетах и научных центрах. Подробнее о модели на сайте ГК Гермес: ГК Гермес - это комплексный поставщик промышленного и лабораторного оборудования широкой специализации. Сайт: gkhs.ru Бесплатный звонок по России: +7 (800) 444-24-69 Главный офис в Санкт-Петербурге: +7 (812) 220-44-88 E-mail: info@gkhs.ru